|
Большой срок службы рабочих растворов снижает затраты на материалы, а также на профилактические остановки оборудования для очистки процессора и замены химикатов. Замена раствора должна производиться каждые 8 недель или после обработки 3000 м2 пластин. При этом реактивы сохраняют стабильность свойств
и обеспечивают высокое качество изготовления форм в течение всего названного срока.
Очистка процессора может производиться обычной теплой водопроводной водой; при необходимости можно использовать специальное средство Processor Cleaner FCT-E15 на кислой основе.
Процесс обработки пластин в реактивах FUJIFILM является экологически чистым, а сами реактивы являются «дружественными» оператору.
|
тел.: +38 044 598 66 77
факс: +38 044 598 66 77
e-mail: @yam.com.ua |
 Скачать описание в формате PDF
|
|
|
Название
|
Описание
|
Форма поставки
|
|
LP-DS
|
Проявитель для фотополимерных негативных пластин:
LP-NV, LP-NN2, LP-NNW
|
20 л
|
|
LP-DRC
|
Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин:
LP-NV, LP-NN2
|
20 л
|
|
LP-DRN
|
Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин
LP-NN2, LP-NNW; снижает подачу подкрепления на 50%
|
20 л
|
|
LP-DZ
|
Проявитель для фотополимерных негативных пластин LP-NN2
|
20 л
|
|
LP-DRZ
|
Подкрепитель для фотополимерных негативных пластин
LP-NN2, снижает подачу подкрепления на 50%,
широкие допуски режимов гуммирования
|
20 л
|
|
FN-6
|
Защитное гуммирующее покрытие для пластин CtP
|
1 л
|
|
CtP deletion pen
|
Корректирующий карандаш для фотополимерных негативных пластин: LP-NV, LP-NN2, LP-NNW
|
1 шт
|
|
Processor Cleaner FCT-E15
|
Моющий раствор, предназначенный для очистки проявочного СТР-процессора (фотополимерных и термальных пластин) от отложений остатков полимера на валах и в емкости
|
10 л
|
|
|
